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幻影成像膜原理就是在膜的表面通过真空磁控溅射镀膜工艺镀制纳米级的感光涂层，使膜保持较高的透过率95%以上的同时也具有高的反射率（镜面外观）。膜层主要成分是SOB感光材料，具有成像细腻，高清晰度成像功能，能使影像产生立体纵深感。